瑞士華寶 (WAB) 砂磨機/珠磨機ECM-Pilot, ECM-Poly, ECM Pro, ECM Plus

ECM-Pilot, ECM-Poly, ECM Pro, ECM Plus

用于分散和濕磨的高效攪拌式珠磨機. 應(yīng) 用 攪拌式珠磨機用于持續(xù)分散和濕磨由低到高粘度的泵送材料。WAB-ECM戴諾磨在循環(huán)式工藝下可獲得很高的產(chǎn)量，同樣，它在通道式工藝下表現(xiàn)也很成功。 WAB - ECM 戴諾磨可用于不同工業(yè)中的分散和研磨： 油漆和油墨 顏料和染料 填料和涂料 農(nóng)藥     原 理 在 ECM 戴諾磨中，研磨珠通過**的戴諾加速器加速。獨特的構(gòu)造使得內(nèi)部研磨珠的循環(huán)得到加強，這樣就保證了一個較窄的保壓范圍且結(jié)合了*高的能量密度。戴諾加速器使研磨珠循環(huán)得到的加強在密度和速度上都比材料流動至研磨機出口方向上對研磨珠所產(chǎn)生的影響大得多。   研磨珠的分離 研磨珠通過抗磨損的篩網(wǎng)保留在研磨機中，特殊的戴諾加速器和在篩網(wǎng)附近的機器部件都設(shè)計用于減輕研磨珠對篩網(wǎng)系統(tǒng)的磨損?？稍诓挥貌痖_研磨缸的條件下更換篩網(wǎng)筒?？墒褂酶鞣N材料制成的研磨珠     材 料 易損件可由不同的材料制成如不銹鋼、加硬鋼和陶瓷。特別選擇的陶瓷材料 (e.g. SiSiC) 具有一個優(yōu)化的散熱能力和*佳的冷卻能力。     軸密封 容易更換的雙機密封，帶壓力清洗單元。清洗液壓力通過閥門來調(diào)節(jié)，冷卻壓力清洗罐由不銹鋼制成。     維 護(hù) 研磨缸移動裝置和研磨珠接收器可在*佳的工作高度幫助客戶迅速和容易的維護(hù)機器，縮短了停機時間。     控制元件 對于機械系統(tǒng)控制，控制面板帶按鈕和信號燈或含數(shù)字指示器的頁碼鍵盤。     **裝置 進(jìn)口處裝有接觸式壓力計，出口處裝有接觸式溫度計，鄰近感應(yīng)開關(guān)防止在沒有安裝研磨缸或前蓋的情況下將機器開動。鄰近電容開關(guān)用于監(jiān)察機械密封中的清洗液液面，接觸式壓力計用于監(jiān)察軸密封的壓力。     WAB - ECM 的優(yōu)點 －*高流量 －*高產(chǎn)量 －*佳能量利用率 －研磨缸較小 －適合于循環(huán)式和通道式工藝 －容易清洗 －容易操作 －更換篩網(wǎng)無須打開研磨缸 ECM 戴諾磨只能用于持續(xù)分散和研磨液相中的固體。在壓力、溫度和研磨作用的影響下，不能出現(xiàn)不可控制的反應(yīng)。材料在研磨機中處理后，必須保持可流動性。 產(chǎn)量取決于被處理的材料及所需的研磨質(zhì)量。所標(biāo)志的產(chǎn)量為一平均值，實際產(chǎn)量可能會稍低或稍高。戴諾磨具有不同的設(shè)計和型號。     技術(shù)參數(shù)   ECM-Pilot ECM-Poly ECM Pro ECM Plus 研磨缸 1.5 升 8.2 升 18.2 升 23.3 升 主馬達(dá) 6.8-7.5 kW 22-30 kW 36-45 kW 36-45 kW 研磨珠尺寸 0.3-2 mm 0.3-2 mm 0.3-2 mm 0.3-2 mm 研磨珠數(shù)量 0.9-1.1 升 4.1-5.3 升 9-12 升 11.7-15.1 升 產(chǎn)量 40-80 kg/h 100-1000 kg/h 400-2000 kg/h 400-2500 kg/h 重量 360-380 kg 700-900 kg 1900-2000 kg 1900-2000 kg 尺寸 (mm) 1372 × 830 × 710 1390 × 800 × 1680 1795 × 1016 × 1989 1903 × 1016 × 1989   溫度和壓力限制     ECM-Pilot ECM-Poly ECM Pro ECM Plus 研磨缸溫度 *大 85oC *大 85oC *大 85oC *大 85oC 研磨缸壓力 *大 4 bar *大 4 bar *大 4 bar *大 4 bar 冷卻系統(tǒng)壓力 *大 6 bar *大 6 bar *大 6 bar *大 6 bar 冷卻水流量 800 升 / 小時 2000 升 / 小時 2000 升 / 小時 2000 升 / 小時   接 口   ECM-Pilot ECM-Poly ECM Pro ECM Plus 材料進(jìn)出口 Ø 25.4 mm G1" G1" G1" 冷卻水 Ø 13 mm Ø 17 mm Ø 17 mm Ø 17 mm 軸密封冷卻 Ø 10 mm Ø 10 mm Ø 10 mm Ø 10 mm   圖 片   ECM-Pilot   ECM Poly   ECM Pro   ECM Plus   戴諾加速器可獲得*高的能量密度，通過SSP反饋孔可獲得更高流量。 ECM Poly / Pro / Plus的新型篩網(wǎng)分離系統(tǒng)，設(shè)計上采用篩網(wǎng)筒，確保了較長的操作時間。 為方便維護(hù)，研磨缸可通過移動裝置得到延展。 ECM-Pilot用于小批量、研究和開發(fā)。 帶控制系統(tǒng)的ECM Poly 外形。